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半导体加工废水处理案例|半导体加工废水处理方法

工作大环境 该半导品牌坐落长江三角洲型省市,主要是生产加工销售8屏幕尺寸和12屏幕尺寸晶圆,日排卸废储水量约2000吨。因此半导生产加工销售工艺设备非常复杂,工业废水补救化学成分多样化且含有很多种难可降解材质,品牌固有补救设备不可需求逐步从严的安全排卸标准单位,故投入1000万元重建专业工业废水补救补救站。 生产废水材料及来历 该公司企业生产废水基本分为四种: 含氟废污水:从何而来于晶圆蚀刻、冲洗工艺技术,氟阳离子含量到达2000mg/L; 有机酸的废水处理方法:存在光刻、定影等工艺设计,内含异丙醇、二甲苯等有机酸的稀释剂,COD值在5000mg/L控制; 酸性焦化废水:有于清洁和表面能处理各个环节,pH值浮动大; 含铜焦化废水:来真空电镀和复合化学工业艺,铜化合物浓硫酸浓度约150mg/L。 治理工艺设备方法 涉及有差异物理性质的电镀废水,进行"归类汇集+分质除理+尾部深度的除理"的组合起来工艺设计: 含氟焦化废水整理线: 二级有机化学滤渣:先加药氯化钙调试pH至6-7,后加入PAC和PAM水解酸化池滤渣; 可溶性氧化的铝吸收:以保证氟化合物浓度值降为8mg/L以内。 有机会焦化废水清理线: 微电解抛光的反应:铁碳组合填料床预整理提供污废水 可生物化性; UASB好氧池反馈器:HRT=24h,COD的还原率65%; MBR膜生物制品不起作用器:选用PVDF弧形纤维素膜,溢水COD<50mg/L。 碱酸化工废水中合软件系统: 自動pH调接:利用在线上监测器仪控住加酸加碱量; 二沉池积淀:删去中合引起的悬屏物。 含铜生产废水处置: 生物发展:添加NaOH控制pH至9-10,达成氢腐蚀铜发展; 正阴阳离子互换:确保铜正阴阳离子溶液浓度<0.3mg/L。 角度清理模快: 臭氧老化催化硫化硫化:进一次化学降解难工业制硝酸生物碳物; 抗逆性炭吸附:祛除对比度和轻微感染物; UV太阳辐射线空气消毒:确保溢水微微生物培养基指标图达到标准。 结果是的效果 品牌正常运作后,冒水土质稳定性做到《电子元器件化工业水影响物产生标准规定》(GB 39731-2020)很产生标准值规范,各举氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜<0.3mg/L。每人每年可限制氟化物产生约120吨,COD产生约400吨,收废水资源保护的约十万吨。系統自行化度高,正常运作资金管控在8.5元/吨水时间。

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