半导体高端封测废水怎么处理方法|半导体高端封测废水处理案例
半导中低端公测匹配涉重废气——MVR强行间歇零排的项目
业务背景图片
光电器件技术一个公测項目,范围150万m³/天,是首份光电器件技术公测配置涉重污废水 处理工艺零排項目。公测关键环节的镀镍、镀铜、引线架构的洗涤会产生含镍含铜污废水 处理工艺,开发区规定"无尾水外排",产水所有的工业废水处理于产线。
水质监测显著特点与薄弱环节
废污水以含镍遵循(溶液浓度10–100毫克/升),伴氢化物发生器铜、锌,pH变化大(2–12),还有光刻胶留下的小量有机化学物。首测厂场景紧,规范补救场地设施占地赔偿小;零排预示着浓水未能建筑垃圾清运不要,都要地方减压蒸馏成果反馈控制。
补救工艺设计路经
总布局走"分质自身 → 预除理除杂 → 耐腐蚀水解除镍 → 油烟净化器 → UF+两极RO → MVR二次反复化掉 → 蒸汽加热水使用":
含镍线先调pH到10–11,加药氢加硫钠导出Ni(OH)₂沉淀自己,再加上加硫钠宽度收集残渣镍(加硫镍Ksp比氢加硫镍更小,可以让镍压到0.1毫克/升下面的);
悠长岁月中出液经多媒介脱水+保安人员脱水后进UF,再进第一RO,产水之间回产线擦拭;
RO浓水(含盐+稳定度天价属)进MVR硬性反复空调减压蒸馏器器,硬性反复能扛高含盐积灰,空调减压蒸馏器器原带一直在线清理,不适合堵;
MVR冷凝器水回工业废水处理池体,挥发残液委外燃烧或充当危险废弃物妥善处理,正个车间无液体状态外排。
关健系统特点代表
MVR強制不断间歇比较传统文化降膜汽化,不断间歇风速高、对流传热面容易结镍盐/碳酸盐垢,适宜首测类似这些"出水量好大但地表水杂"的不一样;三合一化撬装的设计占地面比传统文化汽化塘+多效汽化工作方案小60%以下;有味道侧匹配微生物滤池,把转换池和污泥处理间的有味道持续后降解塑料成CO₂和水,以防首测厂相邻接待室区的有味道网络投诉。
加工处理效果好与社会效益
出水出水镍≤0.1毫克/升、铜≤0.1毫克/升,不同于《化学镍被污染的物污染物标准》表三;全不150立米米/天产水中水回用于公测产线的洗涤,用作等量剥好水;危险废物(汽化残液+生活污水)量比传统化"析出+污染物"模型减约70%。对富士康侧,公测内容安全运营卡点刻上通;